氧化铋薄膜的制备及光催化性能研究.pdf

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【文章名称】：氧化铋薄膜的制备及光催化性能研究
【发表期刊】：《功能材料》  2011年2期
【作者】： 北京航空航天大学物理科学与核能工程学院材料物理与化学研究中心 王留刚，张俊英，李春芝，杨靖安
【摘要】：采用磁控溅射制备了氧化铋薄膜，研究了制备工艺对薄膜的结构、微观形貌和光学性能的影响，并对样品
进行了光催化性能评价。结果表明，氧氩比和退火温度显著影响薄膜的性能。当氧氩比为20∶80时获得的薄膜具有最
佳光催化性能；随退火温度升高，薄膜结晶性增强，并逐渐出现Ｂｉ和Ｓｉ的氧化物，经500℃退火的薄膜具有最强的
光催化活性。
【关键词】：氧化铋；磁控溅射；氧氩比；热处理；光催化