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[讨论] 问一个理论与实际有关的问题

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签到天数: 2301 天

[LV.Master]伴坛终老

发表于 2011-10-5 12:44:18 | 显示全部楼层 |阅读模式
北京中仪天信科技有限公司
问一个理论与实际有关的问题
用N2--CH4气氛,实际(生产)气氛中会有氧吗?
       

该用户从未签到

发表于 2011-10-6 10:15:54 | 显示全部楼层
个人愚见:如果你不使用以空气为平衡空气的氧探头控制系统,就不会有氧。

签到天数: 1874 天

[LV.Master]伴坛终老

发表于 2011-10-6 19:00:41 | 显示全部楼层
孤鸿踏雪 发表于 2011-10-6 10:15
个人愚见:如果你不使用以空气为平衡空气的氧探头控制系统,就不会有氧。

理论上是这样。但在实际生产中,还是会有的,主要是加入的气氛不纯在高温状态下裂解会产生的,只是数量多少而别。不一定正确,请杨工指正。

该用户从未签到

发表于 2011-10-6 19:11:18 | 显示全部楼层
楼主问的是:实际(生产)气氛中会有氧吗?
实际生产中,一定会有氧

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 07:36:42 | 显示全部楼层
tuisi-xingsan 发表于 2011-10-6 19:11
楼主问的是:实际(生产)气氛中会有氧吗?
实际生产中,一定会有氧

这里的氧来自何处?也是因为渗剂不纯带入的吗?

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 07:37:57 | 显示全部楼层
云阳曲轴 发表于 2011-10-6 19:00
理论上是这样。但在实际生产中,还是会有的,主要是加入的气氛不纯在高温状态下裂解会产生的,只是数量多 ...

如果因为渗剂不纯带入氧(杂质)与是否裂解应无关系。

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 07:39:48 | 显示全部楼层
个人愚见,其实楼主所问,还是N2—CH4气氛渗碳是有氧渗碳还是无氧渗碳的问题。

签到天数: 2301 天

[LV.Master]伴坛终老

 楼主| 发表于 2011-10-7 09:53:34 | 显示全部楼层
本帖最后由 wya-8 于 2011-10-7 16:47 编辑
孤鸿踏雪 发表于 2011-10-7 07:39
个人愚见,其实楼主所问,还是N2—CH4气氛渗碳是有氧渗碳还是无氧渗碳的问题。


用CH化合物作渗剂,渗碳层无晶间氧化,足够满足要求。气氛中有氧无氧对炉前操作无关紧要(无实际意义)。

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 10:19:50 | 显示全部楼层
wya-8 发表于 2011-10-7 09:53
用CH化合物作渗剂,渗碳层无晶间氧化,以满足要求。气氛中有氧无氧无关紧要。

如果是这样,那就是控制渗剂纯度(主要是含氧量和含水分问题)、保证炉膛气氛正压和炉子密封良好问题了。

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 10:24:29 | 显示全部楼层
N2--CH4气氛是还原性的混合气体,可以实现零件在热处理过程中的无氧化脱碳加热。

签到天数: 2301 天

[LV.Master]伴坛终老

 楼主| 发表于 2011-10-7 12:57:36 | 显示全部楼层
孤鸿踏雪 发表于 2011-10-6 10:15
个人愚见:如果你不使用以空气为平衡空气的氧探头控制系统,就不会有氧。

氧探头技术已应用于吸热式、滴注式、氮基式、直生式气氛,好像还不支持N2--CH4等气氛吧。不对请指正

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 13:11:24 | 显示全部楼层
wya-8 发表于 2011-10-7 12:57
氧探头技术已应用于吸热式、滴注式、氮基式、直生式气氛,好像还不支持N2--CH4等气氛吧。不对请指正

如果这种气氛也进行添加工艺(平衡)空气呢?为什么不支持?有什么理论依据吗?

该用户从未签到

发表于 2011-10-7 13:17:53 | 显示全部楼层
本帖最后由 草原的风 于 2011-10-7 13:21 编辑

不知道楼主所说的“实际(生产)气氛中会有氧吗?”中的“氧”是指什么,氧分子?氧原子?,实际上不管用什么气氛,必定要开炉装入工件,这时空气肯定会进入,空气中的氧也会进入,即使你再排气,也不可能排的那么干净,或多或少的都会有氧元素的存在,可能会参与反应,另外,工件表面在空气中也会氧化,虽然氧化的即使再不厉害,工件表面照样会生成一层氧化膜,只不过这层膜佷薄而已,肉眼看不出来,但是却是存在的(表面处理的前处理酸洗工序就是去除这层膜的),这样也会带入氧,此外,如果工件、气氛等含有水,也会带入氧的。因此,实际生产中绝对无氧的气氛在地球上是不存在的。

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[LV.Master]伴坛终老

 楼主| 发表于 2011-10-7 23:15:42 | 显示全部楼层
孤鸿踏雪 发表于 2011-10-7 13:11
如果这种气氛也进行添加工艺(平衡)空气呢?为什么不支持?有什么理论依据吗?

“…不会有氧”

既然炉内无氧,即P2O2 = 0 ,则 E (mv) → ∞  ,如何测定呀?

该用户从未签到

发表于 2011-10-8 08:37:28 | 显示全部楼层
wya-8 发表于 2011-10-7 23:15
“…不会有氧”

既然炉内无氧,即P2O2 = 0 ,则 E (mv) → ∞  ,如何测定呀?

炉膛内既然添加了工艺平衡空气,那就会有氧,氧分压也就不会为零了。

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[LV.1]初来乍到

发表于 2011-10-8 08:51:09 | 显示全部楼层
请问楼主:用N2--CH4气氛是做保护气氛加热淬火吗?感觉应该不是渗碳吧。如果炉子气密性好,不漏气的话是没有氧的。

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[LV.Master]伴坛终老

 楼主| 发表于 2011-10-8 15:30:36 | 显示全部楼层
本帖最后由 wya-8 于 2011-10-8 23:17 编辑
孤鸿踏雪 发表于 2011-10-8 08:37
炉膛内既然添加了工艺平衡空气,那就会有氧,氧分压也就不会为零了。



  不(能)用氧探头,更不需要平衡空气。 是通入  239NM3/h(95.6%)N2+11NM3/h(4.4%)CH4的渗碳气氛。这种渗碳气氛用激光气体分析仪(laser gas analyzer)测定气体成分,用箔片控制碳势。

该用户从未签到

发表于 2011-10-8 15:34:52 | 显示全部楼层
说来惭愧,没有用过激光器分析仪的碳势控制系统。

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[LV.Master]伴坛终老

 楼主| 发表于 2011-10-8 18:43:55 | 显示全部楼层
本帖最后由 孤鸿踏雪 于 2011-10-9 09:44 编辑

3#、4#、13#的分析结果和我最近看到的一篇论文(may.3.2010)介绍一致。论文作者用无氧、HC气氛(oxygen-free N2—HC heat-treating atmospheres)、875--975℃×3h渗碳。气体出口(用激光分析仪)分析组成为:CH4<4.4vol%,H2<1.0% ,CO2<0.1%, CO<0.05% ,H2O<50vppm, O2<50vppm; 作者提到炉壁吸附的氧、氧化膜、空气泄漏是氧气的来源。

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[LV.9]以坛为家II

发表于 2011-10-8 19:21:40 | 显示全部楼层
楼主想通过这种方式研究 晶界内氧化还是?
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