激光淬火后淬硬层硬度偏高

kaduosuo · 发表于 2019-9-2 20:26:17

材料为HT200，含碳量3%，用半导体激光器淬火后层深在0.5-0.9mm，但是表层有0.1-0.2mm的莱氏体层，硬度偏高。请问各位大佬有没有什么办法可以使得淬硬层的硬度降低，谢谢！

dzkyx1314 · 发表于 2019-9-3 07:33:08

激光淬火表面温度一般较高，可以通过调整参数降低表面温度，不过这个可能带来硬化层的变化。

上善若水 · 发表于 2023-9-9 21:50:10

麻烦金相来几张，学习下

文成信德 · 发表于 2023-9-19 22:18:40

dzkyx1314 发表于 2019-9-3 07:33
激光淬火表面温度一般较高，可以通过调整参数降低表面温度，不过这个可能带来硬化层的变化。

您的联系方式有吗，我想给您传个视频

飘零风尘 · 发表于 2023-9-20 10:31:29

顺便问一下，现在的激光技术，硬化层深度能达到多少了

风火 · 发表于 2024-1-26 08:38:02

现在激光淬火技术层深能达到多少，我也很好奇，一直没做过激光淬火

重庆热处理协会 · 发表于 2024-1-26 08:57:26

事后降低没有办法，事前控制就是不使用温度可控的方式淬火。

重庆热处理协会 · 发表于 2024-1-26 08:59:44

风火发表于 2024-1-26 08:38
现在激光淬火技术层深能达到多少，我也很好奇，一直没做过激光淬火

新型淬火，1mm努力下可以做到，1.5mm就有困难了。

风火 · 发表于 2024-1-27 08:41:05

重庆热处理协会发表于 2024-1-26 08:59
新型淬火，1mm努力下可以做到，1.5mm就有困难了。

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